Silikon dioksida 📖 Wikipedia

Silikon dioksida

Nama
Nama IUPAC Silicon dioxide
Nama lain Quartz Silica Silicic oxide Silicon(IV) oxide Crystalline silica Pure Silica Silicea
Penanda
Nomor CAS	7631-86-9 Y
ChEBI	CHEBI:30563 Y
ChemSpider	22683 Y
Nomor EC
Referensi Gmelin	200274
KEGG	C16459 N
MeSH	Silicon+dioxide
PubChem CID	24261
Nomor RTECS	{{{value}}}
UNII	ETJ7Z6XBU4 Y
CompTox Dashboard (EPA)	DTXSID1029677
InChI InChI=1S/O2Si/c1-3-2 Y Key: VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Y
Sifat
Rumus kimia	SiO2
Massa molar	60.08 g/mol
Penampilan	Transparent solid (Amorphous) White/Whitish Yellow (Powder/Sand)
Densitas	2.648 (α-quartz), 2.196 (amorphous) g·cm−3[1]
Titik lebur	1,713 °C (3,115 °F; 1,986 K) (amorphous)[1]: 4.88  to
Titik didih	2,950 °C (5,340 °F; 3,220 K)[1]
Suseptibilitas magnetik (χ)	−29.6·10−6 cm3/mol
Konduktivitas termal	12 (|| c-axis), 6.8 (⊥ c-axis), 1.4 (am.) W/(m⋅K)[1]: 12.213
Indeks bias (nD)	1.544 (o), 1.553 (e)[1]: 4.143
Bahaya
Batas imbas kesehatan AS (NIOSH):
PEL (yang diperbolehkan)	TWA 20 mppcf (80 mg/m3/%SiO2) (amorphous)[2]
REL (yang direkomendasikan)	TWA 6 mg/m3 (amorphous)[2] Ca TWA 0.05 mg/m3[3]
IDLH (langsung berbahaya)	3000 mg/m3 (amorphous)[2] Ca [25 mg/m3 (cristobalite, tridymite); 50 mg/m3 (quartz)][3]
Senyawa terkait
Related diones	Carbon dioxide Germanium dioxide Tin dioxide Lead dioxide
Senyawa terkait	Silicon monoxide Silicon sulfide
Termokimia
Entropi molar standar (So)	42 J·mol−1·K−1[4]
Entalpi pembentukan standar (ΔfHo)	−911 kJ·mol−1[4]
Kecuali dinyatakan lain, data di atas berlaku pada suhu dan tekanan standar (25 °C [77 °F], 100 kPa).
N verifikasi (apa ini YN ?)
Referensi

Silikon dioksida, juga dikenal sebagai silika (dari silex Latin) atau asam silikat, merupakan oksida silicon yang memiliki rumus kimia SiO2. Silika ini paling sering ditemukan di alam sebagai pasir atau kuarsa, serta di dinding sel diatom.^[5][6]

Silika diproduksi dalam beberapa bentuk termasuk leburan kuarsa, kristal, silica kesal (atau silica pyrogenic, merek dagang Aerosil atau Cab-O-Sil), silika koloid, gel silika,dan Aerogel.

Silika digunakan terutama dalam produksi kaca untuk jendela, gelas minum, botol minuman, dan banyak kegunaan lain. Mayoritas dari serat optik untuk telekomunikasijuga terbuat dari silika. Ini adalah bahan baku utama untuk keramik banyak whitewareseperti tembikar, keramik, porselin, serta industry semen Portland.

Silika adalah aditif yang umum dalam produksi makanan, di mana ia digunakan terutama sebagai agen aliran dalam makanan bubuk, atau untuk menyerap air dalamaplikasi higroskopik. Ini adalah komponen utama dari tanah diatom yang memilikibanyak kegunaan mulai dari penyaringan untuk serangga kontrol. Itu juga merupakankomponen utama dari abu sekam padi yang digunakan, misalnya, dalam pembuatanfiltrasi dan semen.

Film tipis silica tumbuh pada wafer silicon melalui metode oksidasi termal bias sangat bermanfaat dalam mikroelektronik, di mana mereka bertindak sebagai isolator listrik dengan stabilitas kimia tinggi. Dalam aplikasi listrik, dapat melindungi silikon, biayatoko, blok saat ini, dan bahkan bertindak sebagai jalur terkontrol untuk membatasialiran arus.

Sebuah Aerogel berbasis silica digunakan dalam pesawat ruang angkasa Stardust mengumpulkan partikel luar bumi. Silika juga digunakan dalam ekstraksi DNA dan RNA karena kemampuannya untuk mengikat asam nukleat bawah kehadiran chaotropes. Sebagai silica hidrofobik digunakan sebagai komponen defoamer. Dalam bentuk terhidrasi, digunakan dalam pasta gigi sebagai abrasive sulit untuk menghilangkan plak gigi.

Dalam kapasitasnya sebagai bahan tahan api, itu berguna dalam bentuk serat sebagai kain perlindungan termal suhu tinggi. Dalam kosmetik, hal ini berguna untuk sifat cahaya menyebar dan serap alami. Silika koloid digunakan sebagai age jusanggur dan denda. Dalam produk farmasi, silica bantu aliran bubuk saat tablet terbentuk. Akhirnya, ia digunakan sebagai senyawa peningkatan termal di industripanas sumber tanah pompa.

Struktur tetrahedral unit silika (SiO4), blok bangunan dasar dari kaca paling ideal.

Pada sebagian besar silikat, atom Si menunjukkan koordinasi tetrahedral, dengan 4 atom oksigen yang mengelilingi sebuah atom Si pusat. Contoh yang paling umum adalah dilihat dalam bentuk Kristal kuarsa SiO2 silika. Pada masing – masing bentuk Kristal yang paling termodinamika stabil silika, rata – rata, semua 4 dari simpul (atau oksigen atom) dari tetra hedra SiO4 dibagi dengan atom lain, menghasilkan rumus kimia bersih: SiO2

Misalnya, dalam sel unit alfa – kuarsa, saham tetra hedron pusat semua 4 dari sudut atom O nya, 2 wajah – saham tetra hedra berpusat 2 atom O sudut mereka, dan 4 tepi berbagi – berpusat terahedra hanya satu dari mereka O atom dengan tetrahedral SiO4 lainnya. Hal ini membuat rata – rata bersih 12 dari 24 total simpul bahwa sebagian dari tetra hedra SiO4 7 yang dianggap sebagai bagian dari sel satuan untuk silica.

SiO2 memiliki sejumlah bentuk Kristal yang berbeda (polimorf) selain bentuk – bentuk amorf. Dengan pengecualian stishovite dan silica berserat, semua bentuk Kristal melibatkan unit SiO4 tetrahedral dihubungkan oleh vektor bersama pada pengaturan yang berbeda. Silikon – oksigen panjang ikatan bervariasi antara bentuk Kristal yang berbeda, misalnya dalam α – kuarsa panjang obligasi adalah 161 pm, sedangkan di α – tridimit itu di 154 – 171 pm jangkauan. Sudut Si – O – Si juga bervariasi antara nilai rendah 140° α – tridimit, sampai 180° pada β – tridimit. Pada α – kuarsa sudut Si – O – Si adalah 144°.

Silika berserat memiliki struktur yang serupa dengan SiS2 etrahedra SiO4 tepi – sharing. Stishovite, bentuk tekanan yang lebih tinggi, sebaliknya memilikirutil seperti struktur di mana silicon adalah 6 koordinat. Kepadatan stishovite adalah 4,287 g/cm3, yang membandingkan untuk α – kuarsa, yang terpadat dari bentuk – bentuk tekanan rendah, yang memiliki kerapatan 2,648 g/cm3. Perbedaan densitas dapat berasal dari peningkatan koordinasi sebagai enam panjang terpendek ikatan Si – Odalam stishovite (empat panjang ikatan Si – O dari 176 pm dan dua orang 181 pm) lebih besar dari panjang ikatan Si – O (161 pm) dalam α – kuarsa. Alam koordinasi meningkatkan iconicity ikatan Si – O. Tapi yang lebih penting adalah pengamatan bahwa setiap penyimpangan dari standar parameter ini merupakan perbedaan mikrostruktur atau variasi yang merupakan pendekatan ke vitreous, amorfatau kaca padat.

Perhatikan bahwa satu – satunya bentuk yang stabil dalam kondisi normal adalah α – kuarsa dan ini adalah bentuk yang dioksida silicon Kristal biasanya dihadapi. Dalam kotoran alam di Kristal kuarsa α – dapat menimbulkan warna (lihat daftar).

Perhatikan juga bahwa kedua mineral temperature tinggi, kristobalit dan tridimit, memiliki keduanya kerapatan yang lebih rendah dan indeks bias dari kuarsa. Karena komposisi identik, yang menyebabkan perbedaan harus dalam jarak meningkat pada suhu tinggi mineral. Seperti biasa dengan berbagai zat, semakin tinggi suhu semakin jauh terpisah atom karena energy getaran meningkat. Mineral tekanan tinggi, seifertite, stishovite, dan coesite, di sisi lain, memiliki kerapatan yang lebih tinggi dan indeks bias jika dibandingkan dengan kuarsa. Hal inimungkin disebabkan oleh kompresi kuat dari atom yang harus terjadi selama pembentukan mereka, menghasilkan struktur yang lebih kental.

Faujasit silica adalah bentuk lain dari silica kristalin. Hal ini diperoleh dengan dealuminasi dari natrium rendah, ultra – stabil zeolite Y dengan kombinasi asam dan pemanasan. Produk yang dihasilkan mengandung lebih dari 99% silika, memiliki kristalinitas yang tinggi dan luas permukaan yang tinggi (lebih dari 800 m2 / g). Faujasit – silica memiliki stabilitas termal dan asam yang sangat tinggi. Sebagai contoh, ia mempertahankan tingkat tinggi agar molekul jarak jauh (atau kristalinitas) bahkan setelah mendidih dalam asam klorida pekat.

Media terkait Silikon dioksida di Wikimedia Commons

• Tridymite, International Chemical Safety Card 0807
• Quartz, International Chemical Safety Card 0808
• Cristobalite, International Chemical Safety Card 0809
• amorphous, NIOSH Pocket Guide to Chemical Hazards
• crystalline, as respirable dust, NIOSH Pocket Guide to Chemical Hazards
• Formation of silicon oxide layers in the semiconductor industry. LPCVD and PECVD method in comparison. Stress prevention.
• Quartz SiO₂ piezoelectric properties Diarsipkan 2011-07-15 di Wayback Machine.
• Silica (SiO₂) and Water
• Epidemiological evidence on the carcinogenicity of silica: factors in scientific judgement Diarsipkan 2012-06-18 di Wayback Machine. by C. Soutar and others. Institute of Occupational Medicine Research Report TM/97/09
• Scientific opinion on the health effects of airborne silica Diarsipkan 2012-06-18 di Wayback Machine. by A Pilkington and others. Institute of Occupational Medicine Research Report TM/95/08
• The toxic effects of silica Diarsipkan 2016-04-15 di Wayback Machine. by A Seaton and others. Institute of Occupational Medicine Research Report TM/87/13
•  Chisholm, Hugh, ed. (1911). "Silica" . Encyclopædia Britannica (Edisi 11). Cambridge University Press.